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CXG-2型超臨界細微粒子制備裝置 該設備在RESS工藝基礎上，適當放寬超臨界環境的調整范圍，可滿足不同物料粒子的制備，結品虢上蓋設置三通道，可升級為SEDS工藝。時間：2024-12-17型號：CXG-2型廠商性質：生產廠家瀏覽量：1175
SFE-2型超臨界納米粒子制備裝置該設備采用RESS 工藝,在超臨界狀態下，物料無表面張力束縛，迅速實現干操并保護，阻止晶核極附成長。通過改變流體的進入方向和物料溶液的進入方式，可實現GAS工藝，共用一套超臨界制備系統，在不影響工藝的前提下，節約成本。蓋體內壁經精確打磨，在噴咀噴出范圍內不會發生黏壁現象，也可根據用戶特定要求配置內襯,時間：2024-12-17型號：SFE-2型廠商性質：生產廠家瀏覽量：1290
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